赵龙腾看着赵岂年，呵呵一笑，并未说什么，而是站了起来，给自己泡了壶大红袍！
这玩意，赵龙腾金贵的很，从来不舍的给赵岂年喝！
“你小子真是神了，居然能用计算法推算出用水可以推进光刻机的进步！”
“虽然有点差异，但是我们成功了！”
赵岂年早就想好了的说辞，这一次终于派上用场了！
“这可不是我计算的，是我花高薪聘请了国外的数学家帮我计算的！”
“油浸法在光刻机领域一直都有使用，我就想到了水是不是也可以，他们都可以折射光！”
“然后，我就请人以油浸法的模型推算了水的可行性！”
“我最多就是想到了，灵光一现吧…”
赵龙腾笑了笑，没有发表看法，这个说法他实际上是接受的，不然真的解释不了！
光刻机从出现开始，到现在，光源被卡在193nm无法进步长达20年。
这就是著名的ArF准分子激光，包括近视眼手术在内的多种应用都应用这种激光！
到现在，相关激光发生器和光学镜片等都比较成熟。
就是到后来，市面上用的所有手机电脑主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的。
光源卡住了，想让精度更高，只能从其他方面入手。
伴随着光源被卡主，光刻机的精度，其实也同样被卡住！
193纳米是一个分界岭！
全球高科技领域，甚至是米国政府，都插手这个事情，组成了联盟！
但是，尝试了很多方法，提出了很多解决方案，依旧没有成功！
最后，一切都败给了工程上最简单的解决办法，在晶圆光刻胶上方加1mm厚的水。
水可以把193纳米的光波长折射成134纳米！
浸入式光刻成功翻越了157纳米大关，直接做到半周期65纳米！
加上后来不断改进的高NA镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术，浸入式193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米！
而按照原来的历史，2002年浸入式193纳米的方案才会被提出，随后ASML在一年之后才开发出样机！
而现在，还没到2002年！！
光刻机跨越193纳米，是无数次尝试的结果！
赵岂年的存在，让这个方案提前了两年！
同时，在赵岂年大量资金的推动下，国内的研究和开发要提前两年！！
“赵叔，研究进展如何？”
赵龙腾哈哈一笑，心中的兴奋一下子被释放了出来！
“我们经过近一年的研究，成功产出了157纳米的光刻机！”
赵岂年哗一声站了起来，有点懵了！
“怎么……怎么这么快？”
赵龙腾：“哈哈……我们中国人在科研上，什么时候比外国人差？”
“我们不都追赶上来了？”
“况且，这一次，在光刻机上，我们处在同一个起跑线，最多比国外落后一点点！！”
“有了解决了方案，超过他们非常正常！！”
赵岂年也抑制不住自己内心的激动，这离他称霸光刻机领域又前进了大大的一步！
芯片产品需要至少1-3年时间，由前后道多家厂商通力磨合，才能产出优秀的芯片！
一旦提前，早量产，就比意味着多了更多时间去改善问题和提高良率。
因此，光刻机领域，是赢家通吃！
只要领先一步，就至少领先了三年！！
如果这样，赵岂年很可能不需要称霸芯片领域，只要一直加码光刻机，就能称霸光刻机领域，完成任务！！