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057章 晶圆实验生产线!(2 / 2)

“周经理,我们力晶科技公司方面之前不是没有在设备改造上想办法,也不是我们不努力,可是不管我们再努力,我们公司现有的的设备始终是跟不上半导体产业摩尔定律的进步步伐……”

力晶科技公司的这位技术经理此时开口说道。

“其实老设备还有不小提升空间的……”

周晓东笑了笑说道:“就算是我们技术已经很落后的设备通过改造以及制程工艺的改进还是能提升制程工艺的。”

“周经理,不晓得你有什么办法可以做到?”

这名技术经理此时看着周晓东问道。

“我有好几个技术构想,一个是利用多重曝光的技术路线来提升制程工艺,这个技术路线主要是需要很多层的光刻掩模,工艺很复杂,会增加芯片的制造成本。”

“多重曝光技术?”

张振宇和他身边的技术经理都是愣住了。

这种光刻机的多重曝光技术差不多是十多年后一些芯片大厂才开始运用这种技术,所以周晓东提到这种技术自然是让张振宇等人无比困惑。

“其实这个技术方案原理倒是很简单。”

周晓东此时也是直接动手在一张白纸上开始刷刷地画起来。

“既然现有的光刻机光源只能达到这个分辨率,要想得到更小的晶体管,我们可以先把最开始的掩膜上的间距放宽,先刻蚀一遍,然后在这个基础上放上另外的掩膜再进行曝光,再刻蚀一次,那么我们就可以得到同样面积的晶圆衬底上得到两倍于之前的晶体管数量。”

“啊,这个技术构思简直是绝妙无比!”

这位技术经理满脸惊喜地说道,一下子意识到这个技术构思对提升制程工艺有着非常大的帮助。

周晓东开口说道:“当然,我们还可以在光罩的设计上想办法来提高曝光时候的分辨率,还是能够将晶体管的数量再次提升的。”

张振宇无比惊喜地说道:“周经理,我马上抽调一批技术骨干按照你的这个多重曝光技术构思进行技术研发,如果工艺研发顺利完成的话,这方面的技术专利还是要归于合资公司的。”

他见周晓东只是几句话就给力晶科技公司在制程工艺上捅开了一层窗户纸,心中惊为天人,也不好意思将这个技术方案归于力晶科技公司。

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